NF S76-034-1998 呼吸保护装置.装有头盔或护套的动力过滤装置.要求、试验和标记
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【英文标准名称】:Respiratoryprotectivedevices.Poweredfilteringdevicesincorporatingahelmetorahood.Requirements,testing,marking.
【原文标准名称】:呼吸保护装置.装有头盔或护套的动力过滤装置.要求、试验和标记
【标准号】:NFS76-034-1998
【标准状态】:现行
【国别】:法国
【发布日期】:1998-12-01
【实施或试行日期】:1998-12-20
【发布单位】:法国标准化协会(AFNOR)
【起草单位】:
【标准类型】:()
【标准水平】:()
【中文主题词】:
【英文主题词】:
【摘要】:
【中国标准分类号】:C85;C73
【国际标准分类号】:13_340_30
【页数】:57P;A4
【正文语种】:其他
基本信息
标准名称: | 硅外延片 |
英文名称: | Silicon epitaxial wafers |
中标分类: |
冶金 >>
半金属与半导体材料 >>
半金属与半导体材料综合 |
ICS分类: |
电气工程 >>
半导体材料
|
替代情况: | 替代GB/T 14139-1993 |
发布部门: | 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会 |
发布日期: | 2009-10-30 |
实施日期: | 2010-06-01 |
首发日期: | 1993-02-06 |
作废日期: | |
主管部门: | 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 |
提出单位: | 全国半导体设备和材料标准化技术委员会 |
归口单位: | 全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会 |
起草单位: | 宁波立立电子股份有限公司 |
起草人: | 许峰、刘培东、李慎重、谌攀 |
出版社: | 中国标准出版社 |
出版日期: | 2010-06-01 |
页数: | 12页 |
计划单号: | 20062372-T-469 |
适用范围
本标准规定了硅外延片的产品分类、技术要求、试验方法和检验规则及标志、包装运输、贮存等。
本标准适用于在N 型硅抛光片衬底上生长的n型外延层(N/N+ )和在p型硅抛光片衬底上生长的P型外延层(P/P+ )的同质硅外延片。产品主要用于制作硅半导体器件。其他类型的硅外延片可参照使用。
前言
没有内容
目录
没有内容
引用标准
下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款?凡是注日期的引用文件,其随后所有
的修改单(不包括勘误的内容)或修订版均不适用于本标准,然而,鼓励根据本标准达成协议的各方研究
是否可使用这些文件的最新版本?凡是不注日期的引用文件,其最新版本适用于本标准?
GB/T2828.1 计数抽样检验程序 第1 部分;按接收质量限(AQL)检索的逐批检验抽样计划
(GB/T2828.1-2003,ISO28591;1999,IDT)
GB/T6617 硅片电阻率测定 扩展电阻探针法
GB/T6624 硅抛光片表面质量目测检验方法
GB/T12962 硅单晶
GB/T12964 硅单晶抛光片
GB/T13389 掺硼掺磷硅单晶电阻率与掺杂浓度换算规程
GB/T14141 硅外延层?扩展层和离子注入层薄层电阻的测定 直排四探针法
GB/T14142 硅外延层晶体完整性检验方法 腐蚀法
GB/T14145 硅外延层堆垛层错密度测定 干涉相衬显微镜法
GB/T14146 硅外延层载流子浓度测定 汞探针电容电压法
GB/T14246 半导体材料术语
GB/T14847 重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的红外反射测量方法
YS/T24 外延钉缺陷的检验方法
所属分类: 冶金 半金属与半导体材料 半金属与半导体材料综合 电气工程 半导体材料
【英文标准名称】:Terminologyofhealthcarewaste.
【原文标准名称】:医疗保健废物的术语
【标准号】:NFX30-510-2003
【标准状态】:作废
【国别】:法国
【发布日期】:2003-10-01
【实施或试行日期】:2003-10-05
【发布单位】:法国标准化协会(FR-AFNOR)
【起草单位】:
【标准类型】:()
【标准水平】:()
【中文主题词】:
【英文主题词】:
【摘要】:
【中国标准分类号】:C08
【国际标准分类号】:01_040_13;13_030_30
【页数】:27P.;A4
【正文语种】:其他